Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica
Elmentve itt :
Szerzők: | |
---|---|
Dokumentumtípus: | Cikk |
Megjelent: |
Elsevier
2006
|
Sorozat: | APPLIED SURFACE SCIENCE
252 No. 13 |
doi: | 10.1016/j.apsusc.2005.07.118 |
mtmt: | 1083954 |
Online Access: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/9096 |
Terjedelem/Fizikai jellemzők: | 4768-4772 |
---|---|
ISSN: | 0169-4332 |