Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica

Elmentve itt :
Bibliográfiai részletek
Szerzők: Vass Csaba
Sebők Dániel
Hopp Béla
Dokumentumtípus: Cikk
Megjelent: Elsevier 2006
Sorozat:APPLIED SURFACE SCIENCE 252 No. 13
doi:10.1016/j.apsusc.2005.07.118

mtmt:1083954
Online Access:http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/9096
Leíró adatok
Terjedelem/Fizikai jellemzők:4768-4772
ISSN:0169-4332