Comparison of Xe-excimer (172 nm) and low-pressure mercury vapor lamps (185/254 Nm) in terms of radical generation rate, removal of hazardous organic matter and matrix effect
Elmentve itt :
Szerzők: |
Alapi Tünde Farkas Luca Náfrádi Máté Peintler Gábor |
---|---|
Testületi szerző: | Proceedings of the 5th International Conference on NPM and the 6th International Conference on PAOT (2021) (Szeged) |
Dokumentumtípus: | Könyv része |
Megjelent: |
University of Szeged
Szeged
2021
|
Sorozat: | Proceedings of the 5th International Conference on NPM and the 6th International Conference on PAOT
|
Kulcsszavak: | Fotokatalízis - előadáskivonat |
Tárgyszavak: | |
Online Access: | http://acta.bibl.u-szeged.hu/76849 |
Hasonló tételek
-
Xe*-excimer lamp versus low pressure mercury vapor lamp - the comparison of the efficiency of 185 nm with 172 nm radiation, based on H202 formation and coumarin oxidation
Szerző: Alapi Tünde, et al.
Megjelent: (2020) -
The comparison of the efficacy of 185/254 nm and 172 nm photolysis for the removal of sulfonamides and trimethoprim from aqueous solutions
Szerző: Farkas Luca, et al.
Megjelent: (2024) -
Inhomogenity of the 172 nm VUV light irradiated aqueous solutions
Szerző: Farkas Luca, et al.
Megjelent: (2018) -
Application of coumarin to determine and compare the rate of hydroxyl radical formation in aqueous solutions irradiated with 172 and 185 nm VUV light
Szerző: Farkas Luca, et al.
Megjelent: (2021) -
Investigation of UV/Chlorine processes for trimethoprim transformation using LPM (254 nm) and LED (275 nm) light sources [abstract] /
Szerző: Farkas Luca, et al.
Megjelent: (2022)