Defects and amorphization in ion-implanted silicon

Elmentve itt :
Bibliográfiai részletek
Szerzők: Gyulai József
Révész P.
Zsoldos Lehel
Vértesi G.
Gyimesi J.
Dokumentumtípus: Cikk
Megjelent: 1974
Sorozat:Acta physica et chemica 20 No. 3
Kulcsszavak:Természettudomány, Kémia, Fizika
Online Access:http://acta.bibl.u-szeged.hu/23914
LEADER 00771nab a2200229 i 4500
001 acta23914
005 20210601151102.0
008 161017s1974 hu o 0|| eng d
022 |a 0001-6721 
040 |a SZTE Egyetemi Kiadványok Repozitórium  |b hun 
041 |a eng 
100 1 |a Gyulai József 
245 1 0 |a Defects and amorphization in ion-implanted silicon  |h [elektronikus dokumentum] /  |c  Gyulai József 
260 |c 1974 
300 |a 259-266 
490 0 |a Acta physica et chemica  |v 20 No. 3 
695 |a Természettudomány, Kémia, Fizika 
700 0 1 |a Révész P.  |e aut 
700 0 1 |a Zsoldos Lehel  |e aut 
700 0 1 |a Vértesi G.  |e aut 
700 0 1 |a Gyimesi J.  |e aut 
856 4 0 |u http://acta.bibl.u-szeged.hu/23914/1/phys_chem_020_fasc_003_259-266.pdf  |z Dokumentum-elérés